中析研究所在TOF-SIMS分析检测服务领域经验丰富，可出具CMA资质，拥有规范的工程师团队。中析研究所始终以科学研究为主，以客户为中心，在严格的程序下开展检测分析工作，为客户提供检测、分析、还原等一站式服务，检测报告可通过一键扫描查询真伪。

检测费用：免费初检，根据客户检测需求以及实验复杂程度进行报价。

检测周期：7-15个工作日出具检测报告。

联系电话：400-062-0567或者在线咨询，将有我们的研发工程师与您1对1沟通。

TOF-SIMS分析检测用途

掺杂剂与杂质的深度剖析

薄膜的成份及杂质测定 (金属、电介质、锗化硅 、III-V族、II-V族)

超薄薄膜、浅植入的超高深度辨析率剖析

硅材料整体分析，包含B, C, O,以及N

工艺工具(离子植入)的高精度分析

TOF-SIMS分析检测范围

可对H-U元素进行定性分析(定量需标样)，检测极限可达ppm或更低的浓度。

良好的深度分辨率(0.1-1nm)，但溅射速率很慢(<1μm/H)。

极小小面积分析，小区域可达直径80nm。

可分析有机物，能直接输出有机物分子式;

可对元素进行面分布分析。

TOF-SIMS分析检测标准

ASTM E1162-2011:报告次级离子质谱法(SIMS)中溅射深度截面数据的标准实施规程

ASTM E1438-2011:用次级离子质谱法(SIMS)测量深度掺杂分布界面宽度标准指南

中析研究所检测优势实力

保障：集体所有制科研所，科研项目全。

免费初检：免费进行初检，让您检测无忧。

周期更短：7-10个工作日可出具检测报告。

优质服务：工程师1对1服务，全程项目跟进。

技术先进：博士团队，欧美进口设备300余台。

严谨公正：公检法部门合作单位，科学准确。

多家分部：接受全国上门取样/寄样服务。

一键查询：支持扫描查询真伪，报告认可度高。

中析研究所报告用途

销售：出具检测报告，提成产品竞争力。

研发：缩短研发周期，降低研发成本。

质量：判定原料质量，减少生产风险。

诊断：找出问题根源，改善产品质量。

科研：定制完整方案，提供原始数据。

竞标：报告认可度高，提高竞标成功率。

中析研究所检测流程

1、咨询工程师，提交检测需求。

2、送样/邮递样品。

3、免费初检，进行报价。

4、签订合同和保密协议。

5、进行方案定制、实验。

6、出具实验结果和检测报告。

7、更多增值服务。

因为网站篇幅有限，只列举了部分的检测范围和项目。详情请拨打免费热线：400-062-0567，将会有工程师为您1对1解答。中析研究所检测实验室，将会为您提供较优质的检测服务!

服务地点

服务对象

公检法部门，企事业单位，大学高校，军工单位，部门个人，其他